В Москве разработали новую модель устройства для лазерной очистки
Устройство лазерной очистки F-Clean CW мощностью 1,5 тыс. ватт было разработано московским предприятием под руководством Владислава Овчинского, министра правительства столицы и главы департамента инвестиционной и промышленной политики Москвы (ДИПП). Отмечается, что 90% комплектующих устройства являются отечественными. Новинка способна удалять до двадцати различных видов загрязнений с поверхности металла, таких как следы нефтепродуктов, ржавчина, краска, нагар и другие. Благодаря высокой мощности, устройство способно обрабатывать площадь до 200 кв. сантиметров в секунду, что особенно эффективно в задачах, где требуется высокая производительность.
Отзывы